Wiederholtes Implantationsversagen: Kupfer-IUD erhöht Schwangerschaftsrate

Mao X et al. Short-term copper intrauterine device placement improves the implantation and pregnancy rates in women with repeated implantation failure. Fertil Steril 2017; 108: 55 – 61

Nach einer Hysteroskopie steigt die Wahrscheinlichkeit für eine Schwangerschaft – dies belegen Studien an Frauen mit einem wiederholten Implantationsversagen (mindestens 2-maliges Ausbleiben einer Schwangerschaft trotz Transfer von mindestens einem qualitativ guten Embryo). Chinesische Wissenschaftler konnten nun nachweisen, dass auch die temporäre Einlage einer Kupferspirale (Cu-IUD) das Ergebnis der Kinderwunschbehandlung günstig beeinflusst.